上海微电子新型光刻机专利曝光，可提高光刻机的分辨率

最近几天上海微电子举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付

光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术，集成电路就是由投影曝光装置制成的，将具有不同掩模图案的图形成像至基底上，制造集成电路，薄膜磁头，液晶显示板，或微机电等一系列结构过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，以及更低成本的需求可是现有的光刻投影物镜依旧存在诸如数值孔径较小，分辨率低，适用波段窄，数值孔径不可变和非球面透镜加工制造成本高等问题

为此，上海微电子于 2018 年 12 月 30 日申请了一项名为一种光刻投影物镜及光刻机的发明专利，申请人为上海微电子装备 股份有限公司。

图 1 光刻投影物镜结构示意图

图 1 为本发明提出的光刻投影物镜的结构示意图，包括第一透镜组，第二透镜组和第三透镜组，以及与以上透镜组关于光阑对称设置的第四透镜组，第五透镜组和第六透镜组通过调节光阑的通光孔的大小可以调节光刻投影物镜的数值孔径，从而增加光刻投影物镜适用于不同场景的能力且各透镜组的焦距设定能够增大光刻投影物镜的数值孔径，提升光刻投影物镜的分辨率

第一透镜组 G1，第三透镜组 G3，第四透镜组 G4 以及第六透镜组 G6 具有正的光焦度，第二透镜组 G2 以及第五透镜组 G5 具有负的光焦度光焦度等于像方光束会聚度与物方光束会聚度之差，它表征光学系统偏折光线的能力光焦度的绝对值越大，对光线的弯折能力越强，反之对光线的弯折能力越弱光焦度为正数时，光线的屈折是汇聚性的，反之则是是发散性的光焦度可以适用于表征一个透镜的某一个折射面，或表征某一个透镜，也可以适用于表征多个透镜共同形成的系统

各透镜组以及光阑 STOP 中的所有的透镜均为球面透镜球面透镜是指从透镜的中心到边缘具有恒定的曲率，球面透镜的两个折射面均为球面，而非球面透镜则是从中心到边缘之曲率连续发生变化，因此球面透镜相对于非球面透镜而言更容易加工本发明实施例中的透镜全部采用球面透镜，降低了光刻投影物镜中透镜的加工成本，缩短了透镜的加工周期，提升了光刻投影物镜的装调效率

简而言之，上海微电子的光刻投影物镜专利，通过采用球面透镜设计，降低了加工制造成本，增大了数值孔径，并且适用于 ghi 三线波段扩展了投影物镜的适用场景，提高了光刻机的分辨率

IT之家了解到，据报道，上海微电子已与多家客户就新一代先进封装中的掩膜版对准器达成销售协议，首款封装掩膜版对准器将于今年内交付。

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